Аннотация:
Разработана эффективная конструкция полупроводниковой гетероструктуры, позволившая изготовить непрерывные линейки лазерных диодов спектрального диапазона 750 – 790 нм. Определены оптимальные технологические режимы получения гетероструктур GaAsP/AlGaInP/GaAs методом МОС-гидридной эпитаксии. Показано, что использование квантовых ям с точно заданной величиной рассогласования позволяет снизить пороговую плотность тока и увеличить внешнюю дифференциальную эффективность. Приведены результаты исследований характеристик линеек лазерных диодов, изготовленных из указанных гетероструктур.