Аннотация:
Исследовано стационарное пропускание (отражение) лазерного излучения тонкой пленкой полупроводника при учете экситон-фотонного и упругого экситон-экситонного взаимодействий. Полученные зависимости пропускания тонкой пленки от амплитуды падающего излучения и расстройки резонанса при определенных условиях обладают гистерезисом, что объясняется смещением экситонного уровня при увеличении концентрации экситонов.