RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Квантовая электроника // Архив

Квантовая электроника, 2014, том 44, номер 9, страницы 841–844 (Mi qe16027)

Эта публикация цитируется в 2 статьях

Воздействие лазерного излучения на вещество

Исследование свойств тонких пленок CsI, CsBr, GaAs, выращенных методом импульсного лазерного напыления

В. М. Брендельa, С. В. Гарновa, Т. Ф. Ягафаровa, Л. Д. Исхаковаb, Р. П. Ермаковb

a Институт общей физики им. А. М. Прохорова РАН, г. Москва
b Научный центр волоконной оптики РАН, г. Москва

Аннотация: Методом импульсного лазерного напыления выращены образцы тонкопленочных покрытий соединений CsI, CsBr, GaAs на стеклянных подложках. Проведены морфологические и структурные исследования полученных пленок с помощью рентгеновской дифрактометрии и сканирующей электронной микроскопии. Пленки CsI и CsBr сохраняли стехиометрический состав мишени и имели поликристаллическую структуру; повышение температуры подложки приводило к увеличению плотности пленок. Стехиометрия пленок GaAs не соответствовала составу мишени для всех образцов. Дано объяснение этому факту. Продемонстрировано, что при нарушении условия конгруэнтного переноса для импульсного лазерного напыления возможен рост пленок с сохранением стехиометрии мишени для материалов с малыми значениями температуры плавления и теплопроводности.

Ключевые слова: импульсное лазерное напыление, нанесение тонких пленок, абляция.

PACS: 81.15.Fg, 68.55.-a

Поступила в редакцию: 23.10.2013
Исправленный вариант: 06.02.2014


 Англоязычная версия: Quantum Electronics, 2014, 44:9, 841–844

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024