Д. А. Заярный, А. А. Ионин, С. И. Кудряшов, С. В. Макаров, А. А. Руденко, Е. А. Дроздова, С. Б. Одиноков, “Особенности одноимпульсной фемтосекундной лазерной микро- и субмикромасштабной абляции тонкой серебряной пленки, покрытой микронным слоем фоторезиста”, Квантовая электроника, 45:5 (2015), 462

Эта публикация цитируется в 4 статьях

Экстремальные световые поля и их приложения

Особенности одноимпульсной фемтосекундной лазерной микро- и субмикромасштабной абляции тонкой серебряной пленки, покрытой микронным слоем фоторезиста

Д. А. Заярный^a, А. А. Ионин^a, С. И. Кудряшов^ab, С. В. Макаров^ac, А. А. Руденко^a, Е. А. Дроздова^d, С. Б. Одиноков^d

^a Физический институт им. П. Н. Лебедева РАН, г. Москва
^b Национальный исследовательский ядерный университет "МИФИ", г. Москва
^c Санкт-Петербургский государственный университет информационных технологий, механики и оптики
^d Московский государственный технический университет имени Н. Э. Баумана

Аннотация: Экспериментально исследованы особенности абляции тонкой серебряной пленки со слоем высокопрозрачного фоторезиста толщиной 1 мкм и без него под действием одиночных жесткосфокусированных фемтосекундных лазерных импульсов излучения видимого (515 нм) диапазона. Обнаружены и обсуждаются интерференционные эффекты внутренней модификации слоя фоторезиста, его откольной абляции с поверхности пленки, а также формирования сквозных полых субмикронных каналов в резисте без его откола, но с абляцией расположенной под ним серебряной пленки.

Ключевые слова: тонкая серебряная пленка с микронным слоем прозрачного фоторезиста, фемтосекундные лазерные импульсы видимого диапазона, жесткая фокусировка, субмикро- и микроабляция.

PACS: 79.20.Eb, 81.15.-z, 42.65.Re

Поступила в редакцию: 22.02.2015