Аннотация:
Измерены скорости многоимпульсной наноабляции поверхности алмаза в воздухе пико- и наносекундными лазерными импульсами. Использовалось излучение ArF и KrF эксимерных, второй гармоники Yb:YAG, а также Ti:Al2O3 лазеров. Установлено, что зависимость скорости травления материала от плотности энергии лазерных импульсов имеет степенной характер. Полученный показатель степени оказался в два раза ниже, чем известный ранее для фемтосекундных импульсов. Обсуждаются причины различных закономерностей наноабляции алмаза для "коротких" и "длинных" лазерных импульсов.