RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Квантовая электроника // Архив

Квантовая электроника, 2018, том 48, номер 11, страницы 996–999 (Mi qe16927)

Эта публикация цитируется в 2 статьях

Воздействие лазерного излучения на вещество

Абляция гексагонального нитрида бора при облучении УФ лазерным излучением

В. В. Кононенкоab, М. С. Комленокab, М. А. Дежкинаab, В. М. Гололобовa, В. И. Коновab

a Институт общей физики им. А.М. Прохорова РАН, г. Москва
b Национальный исследовательский ядерный университет "МИФИ", г. Москва

Аннотация: Экспериментально исследованы особенности абляции керамики гексагонального нитрида бора при воздействии наносекундными лазерными импульсами с длинами волн излучения 193 и 248 нм. Получены зависимости скорости удаления материала и наклона стенки кратера от плотности энергии в пятне облучения. Обнаружен режим абляции, при котором скорость удаления материала достигает 5 мкм за импульс, что не характерно для наносекундного лазерного излучения. Показано, что при относительно низких интенсивностях излучения (около 5–10 Дж/см2) угол наклона стенки формируемого кратера не превышает 20°.

Ключевые слова: рефрактивная оптика, рентгеновский диапазон, УФ лазерное излучение, лазерная абляция, нитрид бора, керамика.

Поступила в редакцию: 27.07.2018
Исправленный вариант: 17.09.2018


 Англоязычная версия: Quantum Electronics, 2018, 48:11, 996–999

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024