RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Квантовая электроника // Архив

Квантовая электроника, 2020, том 50, номер 4, страницы 315–320 (Mi qe17238)

Эта публикация цитируется в 7 статьях

Экстремальные световые поля и их взаимодействие с веществом

Моделирование процесса лазерного усиления с учётом зависимости теплофизических и лазерных характеристик среды от распределения температуры в активном элементе Yb:YAG

В. В. Петровabc, В. А. Петровac, Г. В. Купцовac, А. В. Лаптевa, А. В. Кирпичниковa, Е. В. Пестряковa

a Институт лазерной физики СО РАН, г. Новосибирск
b Новосибирский государственный университет
c Новосибирский государственный технический университет

Аннотация: Разработана трёхмерная нестационарная модель процесса лазерного усиления с учётом зависимости теплофизических и лазерных характеристик активных сред от распределения температуры. Проведено численное моделирование процесса лазерного усиления в активных элементах двухкаскадного криогенного лазерного усилителя субджоульного класса, работающего с частотой следования импульсов до 1 кГц. Показано, что учёт температурного распределения является ключевым при расчёте криогенно охлаждаемых лазерных усилителей с мощной диодной накачкой. Определены оптимальные значения параметров излучения диодной накачки, при которых максимально достижимые энергии импульсов на выходе усилителя могут составлять 300 и 570 мДж для частот следования импульсов 1000 и 500 Гц соответственно.

Ключевые слова: диодная накачка, высокая частота следования импульсов, криогенные температуры, лазерный усилитель, уравнение теплопроводности.

Поступила в редакцию: 26.02.2020


 Англоязычная версия: Quantum Electronics, 2020, 50:4, 315–320

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024