In situ исследование динамики взаимодействия мощных потоков ВУФ излучения с поверхностью диэлектрического зеркала

С использованием метода in situ лазерного зондирования поверхности выполнено исследование взаимодействия широко- полосного мощного излучения от импульсного сильноточного разряда в фоновых газовых средах (Ar, воздух) с поверхностью модельного образца диэлектрического зеркала (ZrO₂/SiO₂). Источники на основе импульсных сильноточных (I > 100 кА) плазмодинамических разрядов позволяют генерировать радиационные потоки высокояркостного излучения, в том числе и вакуумного ультрафиолетового (ВУФ) диапазона спектра. Изменение состава фонового газа позволяет организовать радиационную перестройку спектра, управляя коротковолновой границей излучения. Характерные значения интегральной (во всем спектре) плотности потока лучистой энергии на расстоянии 78.6 см от оси источника в реализованных условиях составляют от ∼ 14 – 25 кВт/см² (разряды в воздухе) до ∼ 37 – 112 кВт/см² (разряды в аргоне). Полученные результаты свидетельствуют о протекании вблизи облучаемого зеркала определенных газодинамических процессов (испарение, образование плазменного слоя и др.), чья интенсивность достигала максимума за время 12 – 15 мкс и что подтверждалось экранированием сканирующего пучка лазера. Показано, что характерное время излучения плазменного потока над поверхностью составляло ∼ 30 – 40 мкс.