RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Квантовая электроника // Архив

Квантовая электроника, 2001, том 31, номер 4, страницы 305–310 (Mi qe1940)

Эта публикация цитируется в 22 статьях

Воздействие лазерного излучения на вещество. Лазерная плазма

Эффективность абляционного нагружения и предельная глубина разрушения материала под действием мощного лазерного импульса

К. С. Гуськовa, С. Ю. Гуськовb

a Московский инженерно-физический институт (государственный университет)
b Физический институт им. П. Н. Лебедева Российской академии наук, г. Москва

Аннотация: Аналитически решены задачи о нахождении энергии вещества, охваченного ударной волной (эффективность абляционного нагружения), и определении предельной глубины разрушения твeрдого вещества при воздействии на мишень плазмообразующего пучка лазерного излучения в широком диапазоне изменения его интенсивности (108 – 1014 Вт/см2). Рассчитана предельная глубина разрушения материала, представляющая собой суммарную толщину слоев испаренного и расплавленного за время действия лазерного импульса вещества и слоя расплавленного вещества за фронтом ударной волны, затухающей в мишени после прекращения действия излучения. Показано, что для лазерных импульсов с интенсивностью свыше ~1011 – 1012 Вт/см2 и длительностью до 20 – 100 нс глубина разрушения материала в результате воздействия затухающей ударной волны значительно превышает глубину испарения и плавления вещества за время действия лазерного импульса.

PACS: 42.62.Cf, 52.38.Mf, 62.50.+p

Поступила в редакцию: 09.08.2000


 Англоязычная версия: Quantum Electronics, 2001, 31:4, 305–310

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024