RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Квантовая электроника // Архив

Квантовая электроника, 2001, том 31, номер 5, страницы 424–426 (Mi qe1971)

Эта публикация цитируется в 1 статье

Лазеры и усилители

Широкополосный оптический усилитель ИК импульсов на кристалле LiF:F2+

Т. Т. Басиев, И. В. Ермаков, В. А. Конюшкин, К. К. Пухов

Научный центр лазерных материалов и технологий, Институт общей физики им. А. М. Прохорова РАН, г. Москва

Аннотация: Показана возможность 300-кратного оптического усиления широкополосных световых импульсов наносекундного ИК излучения (λ max = 900 нм) с помощью кристаллов LiF со стабилизированными F2+-центрами окраски в схеме однопроходного усиления.

PACS: 42.55.Rz, 42.60.Lh

Поступила в редакцию: 30.12.1999
Исправленный вариант: 08.02.2001


 Англоязычная версия: Quantum Electronics, 2001, 31:5, 424–426

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024