RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Квантовая электроника // Архив

Квантовая электроника, 2002, том 32, номер 11, страницы 1029–1032 (Mi qe2341)

Эта публикация цитируется в 2 статьях

Воздействие лазерного излучения на вещество

О механизме тепломассопереноса при воздействии на свободную поверхность расплава импульсного лазерного излучения

Л. И. Антонова, A. Ф. Глова, С. В. Дробязко, Ю. М. Сенаторов

ФГУП «ГНЦ РФ – Троицкий институт инновационных и термоядерных исследований»

Аннотация: Экспериментально исследованы условия возникновения и динамика развития затопленных струй, впервые обнаруженных при воздействии на свободную поверхность расплавленного парафина импульсного лазерного излучения, измерены их максимальная скорость и глубина проникновения. Показано, что возникновение затопленных струй имеет пороговый характер и сильно влияет на тепломассоперенос. Приведена картина течений, отражающая динамику развития затопленных струй и термокапиллярных вихрей в ограниченном объеме при импульсно-периодическом облучении поверхности расплава.

PACS: 42.62.Cf, 64.70.Dv

Поступила в редакцию: 29.04.2002


 Англоязычная версия: Quantum Electronics, 2002, 32:11, 1029–1032

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024