RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Квантовая электроника // Архив

Квантовая электроника, 2003, том 33, номер 6, страницы 559–562 (Mi qe2457)

Эта публикация цитируется в 3 статьях

Применения лазеров и другие вопросы квантовой электроники

Бинарные фазовые маски на самопроявляющихся фотополимерах: техника формирования и тестирование в оптическом корреляторе

П. В. Ежов, О. А. Ильин, Т. Н. Смирнова, Е. А. Тихонов

Институт физики НАН Украины, г. Киев

Аннотация: Исследованы бинарные фазовые маски (ФМ) размером 256 × 256 ячеек со случайным распределением элементов, сформированные на самопроявляющемся фотополимере ФПК-488. Маски изготавливались проекционным методом с использованием амплитудных транспарантов. Набег фаз между элементами маски, соответствующим областям амплитудного транспаранта с оптической плотностью D = 0 и 2, для длины волны λ = 0.633 мкм составил (0.85 ± 0.05)π. Для полученных ФМ записаны голографические согласованные фильтры (ГСФ). Дифракционная эффективность ГСФ ФМ η составила 40%. Сигналы распознавания для ФМ в корреляторе Вандер Люгта при этом характеризовались отношением сигнал/шум 20 дБ. Исследована зависимость нормированной плотности мощности сигнала распознавания от угла поворота ФМ во входной плоскости коррелятора Вандер Люгта.

PACS: 42.40.Eq, 42.40.Ht, 42.70.Ln

Поступила в редакцию: 04.06.2002


 Англоязычная версия: Quantum Electronics, 2003, 33:6, 559–562

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024