RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Квантовая электроника // Архив

Квантовая электроника, 2005, том 35, номер 5, страницы 454–466 (Mi qe2783)

Эта публикация цитируется в 5 статьях

Воздействие лазерного излучения на вещество. Лазерная плазма

Поверхностное испарение алюминиевой мишени в вакууме при воздействии лазерного УФ излучения в условиях образования плазмы

В. И. Мажукин, В. В. Носов

Институт математического моделирования РАН, г. Москва

Аннотация: С помощью математического моделирования исследована динамика испарения и конденсации на поверхности металлической мишени в условиях образования плазмы в испаренном веществе под действием УФ излучения KrF-лазера с длиной волны λ= 0.248 мкм, интенсивностью G0 = 2 × 108–109 Вт/см2 и длительностью импульса τ = 20 нс. Используется нестационарная двумерная математическая модель, включающая в себя: для конденсированной среды – уравнение теплопроводности с граничным условием Стефана и дополнительными кинетическими условиями на испаряющейся поверхности, а для пара – уравнения радиационной газовой динамики и переноса лазерного излучения, дополненные табличными значениями параметров уравнений состояния и коэффициентов поглощения. Установлено, что процесс испарения УФ излучением мишени в вакууме происходит в течение всего лазерного импульса и разделяется на две характерные стадии: испарение со скоростью звука в начальный период и дозвуковое испарение после образования плазмы. На стадии дозвукового испарения одна часть лазерного излучения проходит сквозь плазму и поглощается поверхностью мишени, а другая – поглощается в узком плазменном слое вблизи поверхности, создавая высокое давление, существенно замедляющее вынос пара. После окончания импульса часть испаренного вещества конденсируется на поверхности, как в области испарения, так и на некотором расстоянии от нее, вследствие бокового расширения плазменного облака.

PACS: 52.38.Mf

Поступила в редакцию: 01.03.2005


 Англоязычная версия: Quantum Electronics, 2005, 35:5, 454–466

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024