Компактный XeF-лазер с частотой следования импульсов 4 кГц и многосекционным разрядным промежутком

Разработан электроразрядный XeF-лазер с частотой следования импульсов f до 4 кГц. Электродный узел лазера выполнен на основе пластинчатых электродов с индуктивно-емкостной стабилизацией разряда. В качестве буферных газов использовались Не и Ne, донором фтора служил NF₃. Реализован узкий (~1 мм) разряд, удельный энерговклад на единицу длины активного объема достигал 2 Дж/м. Максимальная энергия импульса генерации составляла ~3 мДж для смесей NF₃–Xe–He и NF₃–Xe–Ne при полном давлении 0.8 и 1.2 атм соответственно, максимальный КПД лазера был равен ~0.73%. Максимальная скорость газа в рабочем промежутке достигала 19 м/с. Энергия импульсов лазерного излучения при увеличении частоты следования импульсов до 4 кГц практически совпадала с энергией импульсов лазерного излучения в режиме редко повторяющихся импульсов. Средняя мощность лазерного излучения при f = 4 кГц достигала 12 Вт, а среднеквадратичное отклонение σ энергии лазерных импульсов составляло ~2.5%.