RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Квантовая электроника // Архив

Квантовая электроника, 2005, том 35, номер 3, страницы 252–256 (Mi qe2900)

Эта публикация цитируется в 73 статьях

Воздействие лазерного излучения на вещество

Влияние длительности импульса на графитизацию алмаза в процессе лазерной абляции

В. В. Кононенкоa, Т. В. Кононенкоa, С. М. Пименовa, М. Н. Синявскийa, В. И. Коновa, Ф. Даусингерb

a Центр естественно-научных исследований Института общей физики РАН, Москва
b Institut für Strahlwerkzeuge, Universität Stuttgart, Germany

Аннотация: Экспериментально исследованы процессы графитизации поликристаллического алмаза под действием лазерного излучения при многоимпульсном облучении поверхности. Изучена зависимость толщины лазерно-модифицированного слоя от длительности лазерного импульса в диапазоне 100 фс—1.5 мкс и влияние на нее длины волны излучения. Показано, что графитизация алмаза при многоимпульсной лазерной абляции является термостимулированным процессом. Представлены зависимости скорости абляции алмаза от плотности энергии излучения при воздействии импульсов различной длительности.

PACS: 79.20.Ds, 81.05.Uw

Поступила в редакцию: 30.09.2004
Исправленный вариант: 07.12.2004


 Англоязычная версия: Quantum Electronics, 2005, 35:3, 252–256

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024