RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Квантовая электроника // Архив

Квантовая электроника, 1993, том 20, номер 2, страницы 191–193 (Mi qe2964)

Эта публикация цитируется в 1 статье

Воздействие лазерного излучения на вещество. Лазерная плазма

Влияние лазерного излучения на кинетику окисления пленок титана при термической обработке

А. М. Чапланов, А. Н. Шибко

Институт электроники АН Республики Беларусь, г. Минск

Аннотация: Лазерное облучение материалов, находящихся в нагретом состоянии, стимулирует в них окислительно-восстановительные реакции. Установлено, что облучение пленок титана пучком фотонов с = 1,96 эВ при отжиге в вакууме, наряду с процессами рекристаллизации, стимулирует фотохимические процессы нетермического характера.

УДК: 621.373.826:621.793

PACS: 42.62.Cf, 81.40.Gh

Поступила в редакцию: 16.06.1992


 Англоязычная версия: Quantum Electronics, 1993, 23:2, 163–165

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024