Квантовая электроника,
2005, том 35, номер 4, страницы 344–346
(Mi qe3421)
|
Эта публикация цитируется в
8 статьях
Лазеры
Усиление пикосекундных импульсов в кристаллах LiF:F2- при синхронной пико- и наносекундной лазерной накачке
Т. Т. Басиев,
А. Я. Карасик,
В. А. Конюшкин,
В. В. Осико,
А. Г. Папашвили,
Д. С. Чунаев Научный центр лазерных материалов и технологий, Институт общей физики им. А. М. Прохорова РАН, г. Москва
Аннотация:
Предложена и реализована схема усиления пикосекундных импульсов в кристаллах LiF:
F2- при последовательной синхронной пико- и наносекундной лазерной накачке излучением YLF:Nd-лазеров. В результате двухстадийного усиления цугов импульсов ВКР с λ = 1150 нм и длительностью 22 пс, излучаемых кристаллом PbMoO
4, достигнут коэффициент усиления по мощности (2 - 4) × 10
3 и получены одиночные импульсы длительностью 6 пс с энергией 0.88 мДж.
PACS:
42.65.Dr,
42.70.Mp Поступила в редакцию: 20.12.2004
Исправленный вариант: 22.02.2005
© , 2024