RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Квантовая электроника // Архив

Квантовая электроника, 1991, том 18, номер 1, страницы 81–83 (Mi qe3715)

Воздействие лазерного излучения на вещество. Лазерная плазма

Критерий "острой фокусировки" при лазерном пробое гигантским импульсом YAG-лазера

А. В. Марьин, В. В. Радченко, Т. Н. Ясько

Научно-исследовательский институт ядерной физики Московского государственного университета им. М. В. Ломоносова

Аннотация: Исследовано влияние условий фокусировки на пробой стекол К8, КВ, ТФ8, ГЛС21П, ЖС11, кристаллов ниобата и танталата лития импульсом длительностью 20 нс на длине волны 1,06 мкм. Получены размерные зависимости пороговой мощности и интенсивности пробоя при фокусировании излучения в пятно диаметром от 6,75 до 42,7 мкм. Показано, что пробой всех исследованных материалов обусловлен самофокусировкой излучения. Определяется условие «острой фокусировки» при лазерном пробое.

УДК: 621.373.826

PACS: 42.55.Rz, 42.65.Jx, 42.65.Re, 42.60.Jf, 61.80.Ba, 61.82.Ms

Поступила в редакцию: 03.08.1989


 Англоязычная версия: Soviet Journal of Quantum Electronics, 1991, 21:1, 73–75

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024