RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Квантовая электроника // Архив

Квантовая электроника, 1991, том 18, номер 11, страницы 1325–1328 (Mi qe4382)

Эта публикация цитируется в 3 статьях

Воздействие лазерного излучения на вещество. Лазерная плазма

Временные и термодинамические характеристики плазмообразования

М. Игнатавичюс, Э. Казакявичюс, Г. Оршевски, В. Данюнас

Институт физики Академии наук Литвы, Вильнюс

Аннотация: Исследовано плазмообразование при воздействии на мишени из алюминия, железа и сплава ВК-6 излучением наносекундного YAG:Nd3+-лазера (Emax = 50 мДж, τ = 3–8 нс). Показано, что длительность процесса плазмообразования слабо зависит от параметров лазерного излучения (плотность мощности варьировалась в диапазоне 1–3 ГВт/см2, длительность фронта – 2–8 нс или скорость нарастания плотности мощности – (1–8)·108 Вт/см2·нс). Исследовано установление локального термодинамического равновесия в плазменном факеле, возбужденном излучением нано- и пикосекундного (E = 30 мДж, τ = 40 пс) лазеров. Показано, что максимум свечения алюминиевой плазмы, возбуждаемой лазерным излучением пикосекундной длительности, приходится на состояние ЛТР. При наносекундном возбуждении возможно отсутствие ЛТР.

УДК: 621.373.826:533.9

PACS: 42.55.Rz, 42.65.Re, 42.60.Gd, 52.50.Jm, 05.70.-a

Поступила в редакцию: 19.04.1991


 Англоязычная версия: Soviet Journal of Quantum Electronics, 1991, 21:11, 1210–1213

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024