RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Квантовая электроника // Архив

Квантовая электроника, 1983, том 10, номер 7, страницы 1478–1480 (Mi qe4536)

Краткие сообщения

Кинетика спектра и яркостной температуры плазмы оптического пробоя у поверхности стекла

Ю. М. Васьковский, И. А. Гордеева, Р. Е. Ровинский, И. П. Широкова


Аннотация: Исследованы временные и пространственные характеристики спектра и яркостной температуры плазмы, образующейся у поверхности стекла в некоторых режимах его технологической обработки. Показано, что при плотности энергии облучения 106–107 В/см2 в начальный момент возникает воздушный спектр, через 6–8 мкс переходящий в спектр излучения стекла. При этом максимальная яркостная температура плазменного образования изменяется от 7·103 до 2·103 K.

УДК: 621.373.826.533.9

PACS: 52.80.Ho, 51.50.+v

Поступила в редакцию: 06.09.1982


 Англоязычная версия: Soviet Journal of Quantum Electronics, 1983, 13:7, 962–964

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024