Н. Г. Басов, Ю. А. Быковский, А. В. Виноградов, А. А. Галичий, М. П. Калашников, В. Л. Канцырев, Ю. П. Козырев, М. Ю. Мазур, Ю. А. Михайлов, В. П. Пузырев, А. В. Роде, Г. В. Склизков, И. Я. Фрондзей, “Исследование лазер-плазменного источника мягкого рентгеновского излучения при плотностях потока 5·1011–2·1014 Вт/см2”, Квантовая электроника, 9:8 (1982), 1525

Эта публикация цитируется в 5 статьях

Исследование лазер-плазменного источника мягкого рентгеновского излучения при плотностях потока 5·10¹¹–2·10¹⁴ Вт/см²

Н. Г. Басов, Ю. А. Быковский, А. В. Виноградов, А. А. Галичий, М. П. Калашников, В. Л. Канцырев, Ю. П. Козырев, М. Ю. Мазур, Ю. А. Михайлов, В. П. Пузырев, А. В. Роде, Г. В. Склизков, И. Я. Фрондзей

Физический институт им. П. Н. Лебедева АН СССР, Москва

Аннотация: Исследована зависимость коэффициента преобразования лазерного излучения, нагревающего мишень, в рентгеновское излучение образующейся при этом плазмы в широких диапазонах плотностей потока лазерного излучения (5·10¹¹–2·10¹⁴ Вт/см²) и атомных номеров материала мишени (4–92). В условиях данного эксперимента даны оценки экспозиционной дозы для рентгенолитографического резиста с использованием лазер-плазменного источника мягкого рентгеновского излучения.

УДК: 621.375.826:621.039.64+537.531

PACS: 52.50.Jm, 52.25.Ps, 78.70.Dm, 85.40.Ci

Поступила в редакцию: 23.08.1981