Численная обработка интерферограмм несимметричных плазменных объектов

При интерферометрии плотной, быстрорасширяющейся плазмы необходимо применять лазеры с длительностью импульса ~10^–10…10^–11 с. При этом из-за большой ширины линии излучения возникает необходимость в применении методов обработки интерферограмм, дающих при малом числе экспериментальных точек N максимальную точность. Кроме того, важно знать величину ошибок, возникающих при обработке, и оптимальное число обрабатываемых точек N_opt. В настоящей работе путем численного обсчета на ЦВМ типа М-220 найдены N_opt и ошибки метода Ван Вуриса для трех характерных профилей плотности электронов в плазмах, возникающих в плазменном фокусе. Уточнены N_opt и ошибки метода парабол и метода Ван Вуриса для плазм, образующихся в плазменном факеле, оцененные аналитически ранее. Предложен метод диагностики асимметричных плазм и просчитан ряд характерных профилей электронной плотности (моды неустойчивости Рэлея–Тейлора, развивающиеся в пинчах).