RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Квантовая электроника // Архив

Квантовая электроника, 1990, том 17, номер 10, страницы 1336–1338 (Mi qe7456)

Эта публикация цитируется в 1 статье

Воздействие лазерного излучения на вещество

Развитие экранировки в лазерной плазме

Ю. М. Васьковский, А. С. Коренев, Р. Е. Ровинский, И. С. Ценина

Научно-производственное объединение «Астрофизика», Москва

Аннотация: Экспериментально исследовано взаимодействие импульсного излучения CO2-лазера длительностью 2 и 10 мкс с плотностью энергии от 1 до 40 Дж/см2 в пятне облучения площадью 3 см2 с создаваемой им плазмой оптического пробоя вблизи поверхности образцов из стекла, дюралюминия, кварца, оргстекла и фтористого лития. Экранировка лазерного излучения плазмой является пороговой при плотностях энергии, заметно превышающих энергетический порог образования плазмы. В интервале энергий лазерного импульса между этими двумя порогами плазма остается прозрачной для лазерного излучения. Определены энергетические пороги экранировки, показано, что доля не прошедшей через плазму энергии лазерного импульса насыщается на уровне 0,5–0,9 в зависимости от исследованных материалов.

УДК: 621.373.826:533.9

PACS: 52.50.Jm, 52.38.Dx, 42.55.Lt, 42.60.Jf

Поступила в редакцию: 26.01.1990


 Англоязычная версия: Soviet Journal of Quantum Electronics, 1990, 20:10, 1246–1248

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024