RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Квантовая электроника // Архив

Квантовая электроника, 1990, том 17, номер 11, страницы 1480–1484 (Mi qe7540)

Эта публикация цитируется в 12 статьях

Воздействие лазерного излучения на вещество

Об эффективном режиме эрозионного приповерхностного плазмообразования в воздухе при импульсно-периодическом лазерном воздействии

Л. Я. Минько, А. Н. Чумаков, Н. А. Босак

Институт физики им. Б. И. Степанова АН БССР, Минск

Аннотация: Исследовано воздействие серии периодических лазерных импульсов (λ = 1,06 мкм) на ряд материалов (алюминий, медь, графит, эбонит) в воздухе при плотностях мощности лазерного излучения q = 107–109 Вт/см2 и частотах повторения лазерных импульсов f ≤ 50 кГц в пятнах облучения площадью ~ 10 – 2 см2. Обнаружен режим эффективного эрозионного лазерного плазмообразования (q > 2·108 Вт/см2, f ≥ 5 кГц), в котором обеспечивается вытеснение из зоны воздействия экранирующего слоя воздушной плазмы от первого лазерного импульса серии и переход к эрозионному плазмообразованию с невысокой степенью экранировки мишени в процессе воздействия последующих лазерных импульсов.

УДК: 621.373.826:533.9

PACS: 42.60.Lh, 42.60.Jf, 52.50.Jm, 42.79.Bh

Поступила в редакцию: 19.01.1990


 Англоязычная версия: Soviet Journal of Quantum Electronics, 1990, 20:11, 1389–1392

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024