Аннотация:
Проведена аттестация полос накачки кристаллов BaEr2F8:Tm+Ho по их вкладу в возбуждение лазерного уровня 5I7 (Ho) и тепловыделение. Исследованы
вопросы устойчивости кросс-релаксационной схемы преобразования поглощенной энергии в BaEr2F8:Tm+Ho при изменении концентрации активатора Ho в пределах 0,5–1,5 %. Показано, что для режима свободной генерации из исследованных кристаллов наилучшим является BaEr2F8:Tm (5%) + Ho (0,5%).