RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Квантовая электроника // Архив

Квантовая электроника, 1994, том 21, номер 4, страницы 329–332 (Mi qe79)

Эта публикация цитируется в 2 статьях

Воздействие лазерного излучения на вещество. Лазерная плазма

Оптический пробой кварцевого стекла излучением XeF-лазера

А. В. Амосовa, В. С. Барабановb, С. Ю. Герасимовa, Н. В. Морозовb, П. Б. Сергеевb, В. Н. Степанчукa

a Государственный оптический институт им. С. И. Вавилова, г. Санкт-Петербург
b Физический институт им. П. Н. Лебедева РАН, г. Москва

Аннотация: Для кварцевых стекол КУ1 и КУВИ измерена объемная лучевая прочность при длительности импульса 85 нс на длине волны 353 нм. Пороги пробоя перечисленных материалов совпадают и составляют 280 ГВт/см2. С учетом результатов по лучевой прочности КУ1 на λ = 248 и 193 нм, полученных ранее на тех же образцах и при прочих одинаковых условиях, построена зависимость порога пробоя этого материала от длины волны. Делается вывод о том, что нелинейное поглощение является основным механизмом, ответственным за разрушение кварцевого стекла в интенсивных полях лазерного излучения УФ диапазона.

PACS: 42.70.Ce, 42.62.Hk

Поступила в редакцию: 06.08.1993


 Англоязычная версия: Quantum Electronics, 1994, 24:4, 307–310

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024