RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Квантовая электроника // Архив

Квантовая электроника, 1989, том 16, номер 5, страницы 1042–1046 (Mi qe8093)

Оптоэлектроника, взаимодействие излучения с веществом и другие вопросы квантовой электроники

Динамика плазмообразования при различных плотностях мощности лазерного излучения, воздействующего на металлические мишени

А. П. Бык, В. К. Гончаров, В. И. Карабань, А. Ф. Чернявский

Научно-исследовательский институт прикладных физических проблем им. А. Н. Севченко, Минск

Аннотация: Рассмотрена динамика плазмообразования при воздействии импульсного излучения неодимового лазера на мишени из алюминия, меди и никеля при изменении средней плотности мощности в диапазоне 0,9–50 МВт/см2. Приведены результаты измерений зависимости от времени диаметра частиц никелевой мишени в эрозионном факеле при различных плотностях мощности плазмообразующего лазера.

УДК: 533.9.082:621.373.826

PACS: 52.50.Jm, 42.55.Rz, 42.60.Jf

Поступила в редакцию: 03.03.1988


 Англоязычная версия: Soviet Journal of Quantum Electronics, 1989, 19:5, 676–678

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024