Аннотация:
Исследованы процессы разрушения пленок SiO2, TiO2, SiOx, TiOx, (x<2) и поверхности кристаллов рутила в зависимости от длины волны излучения, условий фокусировки, температуры экспериментальных образцов. Обсуждаются возможные механизмы разрушения пленок.