RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Квантовая электроника // Архив

Квантовая электроника, 2005, том 35, номер 10, страницы 953–958 (Mi qe8964)

Эта публикация цитируется в 1 статье

Воздействие лазерного излучения на вещество. Лазерная плазма

Влияние импульсной лазерной очистки мишени на ионизацию и ускорение ионов в плазме, создаваемой фемтосекундным лазерным импульсом

Р. В. Волковa, А. А. Воробьевa, В. М. Гордиенкоab, М. С. Джиджоевa, И. М. Лачкоab, Б. В. Марьинc, А. Б. Савельевab, Д. С. Урюпинаa

a Физический факультет, Московский государственный университет имени М.В. Ломоносова
b Международный учебно-научный лазерный центр МГУ им. М. В. Ломоносова
c НИИ ядерной физики им. Д. В. Скобельцына, МГУ им. М. В. Ломоносова

Аннотация: Показано, что на характеристики ионного тока лазерной плазмы, формирующейся на поверхности твердотельной мишени под действием сверхинтенсивного фемтосекундного излучения, существенное влияние оказывает примесный слой, находящийся на поверхности этой мишени. Применение импульсной лазерной очистки приводит к появлению дополнительной высокоэнергетической компоненты в спектре ионов материала мишени. Показано, что, изменяя время опережения чистящего лазерного излучения, можно управлять такими параметрами ионного тока лазерной плазмы, как средний и максимальный заряды ионов, максимальная энергия ионов материала мишени и пр.

PACS: 52.38.Kd, 52.70.Nc, 52.77.Bn

Поступила в редакцию: 11.04.2005
Исправленный вариант: 16.08.2005


 Англоязычная версия: Quantum Electronics, 2005, 35:10, 953–958

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024