Кинетика образования приповерхностной лазерной плазмы в отсутствие разрушения поверхности

Рассмотрена кинетика возникновения плазмы вблизи поверхности тела, нагреваемого лазером. Предполагается, что температура поверхности в процессе нагрева не превосходит температуры кипения (сублимации) при заданном внешнем давлении и развитое испарение отсутствует. Для случая, когда характерное время изменения концентрации паров за счет нагрева поверхности велико по сравнению с характерным временем установления их распределения в пространстве, развита квазистационарная модель пробоя. Показано, что пробой паров и пробой окружающего газа происходят при различных интенсивностях лазерного излучения, а зависимость основных параметров приповерхностной лазерной плазмы от интенсивности излучения носит гистерезисный характер. Рассмотрен также случай, когда концентрация паров за счет нагрева меняется быстро по сравнению с характерным временем установления распределения паров. Показано, что при этом пробой паров материала мишени может сопровождаться пробоем окружающего газа. Проводится сопоставление с экспериментальными данными.