RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Квантовая электроника // Архив

Квантовая электроника, 1979, том 6, номер 10, страницы 2160–2165 (Mi qe9514)

Эта публикация цитируется в 6 статьях

Равновесный химический состав газов в отпаянном импульсном лазере высокого давления на углекислом газе

В. С. Алейников, В. К. Сысоев, Ю. Ф. Бондаренко


Аннотация: Проведено исследование динамики изменения и установления равновесного химического состава газовой смеси в импульсном газоразрядном лазере высокого давления на углекислом газе с предварительной фотоионизацией и высокой частотой повторения импульсов тока при поперечной прокачке газа по замкнутому циклу. Использование высокой частоты повторения импульсов тока способствует быстрому установлению равновесного химического состава смеси (в течение 10–15 мин) в относительно большом объеме (60 л) без существенного загрязнения смеси десорбированными газами. Установлено, что по истечении этого интервала времени после включения разряда в газовом объеме устанавливается динамическое равновесие между реакциями диссоциации молекул CO2 и рекомбинации продуктов разложения. Показано, что установившаяся степень диссоциации углекислого газа является функцией электрических параметров разряда, начального состава газовой смеси и не зависит от давления. В типовых условиях лазерного разряда установившаяся степень диссоциации молекул CO2 составляет 20–30%. Показана возможность применения водорода как катализатора реакции окисления окиси углерода. На основании проведенных исследований для практически важных режимов работы импульсных лазеров на углекислом газе, использующих химически равновесные смеси, рекомендуется использование пониженных давлений смеси.

УДК: 621.373.862

PACS: 42.55.Dk

Поступила в редакцию: 14.12.1978
Исправленный вариант: 19.03.1979


 Англоязычная версия: Soviet Journal of Quantum Electronics, 1979, 9:10, 1266–1269


© МИАН, 2024