RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Успехи химии // Архив

Усп. хим., 2011, том 80, выпуск 9, страницы 905–920 (Mi rcr75)

Эта публикация цитируется в 38 статьях

Лазерно-индуцированное осаждение металлов: химические реакции в растворе и активация диэлектрических поверхностей

В. А. Кочемировскийa, Л. Г. Менчиковb, С. В. Сафоновa, М. Д. Бальмаковa, И. И. Тумкинa, Ю. С. Тверьяновичa

a Институт химии Санкт-Петербургского государственного университета
b Институт органической химии им. Н.Д. Зелинского Российской академии наук

Аннотация: Обобщены и систематизированы данные о факторах, влияющих на результат процесса лазерно-индуцированного осаждения металлов, прежде всего меди, из раствора. Особое внимание уделено химическим реакциям в растворе и активации поверхности диэлектрика. Рассмотрены механизмы химического и лазерно-индуцированного нанесения локальных медных структур из раствора на поверхность диэлектриков. Обсуждено влияние состава компонентов раствора на результат осаждения.
Библиография — 92 ссылки.

Поступила в редакцию: 24.04.2011

DOI: 10.1070/RC2011v080n09ABEH004224


 Англоязычная версия: Russian Chemical Reviews, 2011, 80:9, 869–882

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024