Особенности нагрева системы «металлическая пленка – полупроводник» излучением лазера, работающего в различных режимах

Исследованы особенности нагрева системы «металлическая пленка – полупроводник» излучением лазера. Показано, что при работе лазера в режиме гигантского импульса при заданной интенсивности излуче­ния температурным полем в полупроводнике можно эффективно управлять толщиной поглощающей металлической пленки. Получено соотношение, позволяющее оценивать пороговую интенсивность излу­чения в режиме свободной генерации.