Влияние постоянного поля на приэлектродную область неоднородного СВЧ-разряда в водороде

Методом эмиссионной спектроскопии изучено влияние постоянного электрического поля на приповерхностную плазму электродного микроволнового разряда (ЭМР) при давлениях $1$–$5$ Тор в водороде. Получены вольт-амперные характеристики ЭМР по постоянному току, значения напряженности СВЧ-поля и его пространственные распределения в приэлектродном слое ЭМР. При положительном напряжении на электроде относительно камеры изменения в структуре разряда незначительны и при определенных напряжениях, зависящих от давления и СВЧ-мощности, происходит пробой слоя пространственного заряда у поверхности разрядной камеры. При отрицательном напряжении на электроде (режим СВЧ плазменного катода) изменяются структура и размеры разряда и при больших токах разряд гаснет.