RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Теплофизика высоких температур // Архив

ТВТ, 2015, том 53, выпуск 3, страницы 337–346 (Mi tvt331)

Эта публикация цитируется в 2 статьях

Исследование плазмы

Диффузионно-ионизационный механизм поперечного распространения таунсендовского и тлеющего разрядов и его влияние на устойчивость и природу нормальной плотности тока

Н. Ю. Наумов

Институт физических проблем РАН, г. Москва

Аннотация: Теоретически и экспериментально исследован диффузионно-ионизационный механизм поперечного распространения короткого таунсендовского разряда вблизи минимума кривой Пашена. Обнаружено, что влияние продольной диффузии электронов вызывает значительное усиление поперечного распространения разряда. При различных электрических полях $(E/p \approx 100$$220$ В см$^{–1}$ Тор$^{–1})$ измерен эффективный коэффициент диффузионно-ионизационного распространения разряда в неоне, который может в несколько раз превышать коэффициент амбиполярной диффузии. Теоретически и экспериментально определена граница поперечной неустойчивости таунсендовского разряда в неоне. Дана оценка вклада диффузии в граничное условие, определяющее нормальную плотность тока.

УДК: 537.525

Поступила в редакцию: 27.02.2014
Принята в печать: 05.11.2014

DOI: 10.7868/S0040364415020192


 Англоязычная версия: High Temperature, 2015, 53:3, 319–328

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024