RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Теплофизика высоких температур // Архив

ТВТ, 1988, том 26, выпуск 3, страницы 445–449 (Mi tvt4298)

Исследование плазмы

Накопление отрицательных ионов в прикатодном слое вакуумного диода в присутствии электроотрицательных газов

В. И. Баранов, В. А. Петросов

г. Москва

Аннотация: Теоретически исследуется явление ионного запирания тока вакуумного диода в присутствии электроотрицательных сред. Показано, что эмиссия отрицательных ионов с поверхности катода, образовавшихся в результате поверхностной ионизации электроотрицательных молекул среды, приводит к уменьшению электронного тока через диод в режиме ограничения тока объемным зарядом. Определена зависимость плотности тока в этом режиме от основных параметров: работы выхода материала катода, его температуры и сродства к электрону молекул среды.

УДК: 621.385.711

Поступила в редакцию: 13.04.1987


 Англоязычная версия: High Temperature, 1988, 26:3, 318–322

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024