Условия образования и параметры анодной плазмы дугового разряда низкого давления

На основе экспериментального и численного моделирования проведен анализ процессов образования и определены параметры плазмы в анодной области дугового разряда низкого давления. Показано, что при давлениях $0{,}01$–$0{,}1$ Па наибольший вклад в процесс ионизации вносят плазменные электроны. Эти электроны образованы в результате релаксации потока высокоэнергетичных электронов при развитии в исследуемой области коллективных процессов взаимодействия, что является основной причиной резкого возрастания концентрации электронов при увеличении давления газа и ранее не наблюдавшейся немонотонности зависимости потенциала плазмы от давления. Аналогичные зависимости наблюдаются и при изменении геометрических размеров электродной системы. Результаты расчета удовлетворительно согласуются с экспериментом.