Распределение потенциала вблизи проводящей пластины в двухтемпературной плазме

Рассчитано распределение потенциала в дебаевском скачке между проводящей пластиной и плазмой, состоящей из горячей компоненты термоядерной плазмы и холодной компоненты, образованной в результате эрозии материала стенки. Показано, что наличие холодной компоненты плазмы может существенно усилить электрическое поле на поверхности проводящей пластины, что облегчает условия зажигания униполярных дуг.