Параметры плазмы импульсного вакуумного разряда

Приведены сравнительные результаты измерений параметров плазмы при наличии и отсутствии внешнего магнитного поля (МП), определяемых по форме обратных токов. Установлено, что наличие МП сдвигает порог образования анодных пятен в сторону больших значений разрядных токов, а также характеризуется возрастанием концентрации и уменьшением площади сечения разрядного канала. МП слабо влияет на температуру электронов. Рассмотрены условия устойчивости разряда и замагничивания электронов плазмы.