RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Теплофизика высоких температур // Архив

ТВТ, 1982, том 20, выпуск 2, страницы 215–219 (Mi tvt6281)

Исследование плазмы

О структуре профиля электронной концентрации в окрестности локализованных неоднородностей при амбиполярной диффузии замагниченной рекомбинирующей плазмы

Л. Н. Заседкаab, В. Ф. Резцовab

a Киевский государственный университет им. Т. Г. Шевченко
b Институт электродинамики АН УССР, г. Киев

Аннотация: В приближении амбиполярной диффузии рассмотрена задача о структуре пограничного слоя электронов в окрестности макроскопических неоднородностей с учетом электрон-ионной рекомбинации. Показано, что при значениях электронной концентрации на границе включений, меньших концентрации электронов вдали от неоднородностей, структура пограничного слоя определяется ионизацией, а в противоположном случае – рекомбинацией. Влияние магнитного поля сводится к уменьшению толщины пограничного слоя в областях, где векторы магнитного поля и градиента электронной концентрации ориентированы перпендикулярно, вследствие уменьшения электронной подвижности в поперечном магнитном поле.

УДК: 537.311.33

Поступила в редакцию: 18.03.1981


 Англоязычная версия: High Temperature, 1982, 20:2, 184–188

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024