Исследование плазмы индукционного ВЧ-разряда в скрещенных полях

Проведено экспериментальное исследование индукционного ВЧ-разряда в аргоне с присадкой цезия. Показано, что такой разряд наиболее удобен для получения режима с полностью ионизованной присадкой. Получена устойчивая плазма при величинах эффективного параметра Холла до $23$, близких к параметру замагниченности электронов. Наблюдалось влияние кинетических эффектов на поддержание разряда в магнитном поле.