RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Теплофизика высоких температур // Архив

ТВТ, 2007, том 45, выпуск 1, страницы 12–18 (Mi tvt964)

Эта публикация цитируется в 5 статьях

Исследование плазмы

Влияние аксиального магнитного поля на процесс формирования анодного пятна в вакуумно-дуговом разряде с электродами из $\mathrm{CuCr}50$

Е. Ф. Прозоров, К. Н. Ульянов, В. А. Федоров

Всероссийский электротехнический институт им. В. И. Ленина

Аннотация: Экспериментально изучено влияние внешнего аксиального магнитного поля на процесс образования анодного пятна в импульсном вакуумно-дуговом разряде в диапазоне токов $5$$12$ кА в разрядном промежутке с электродами из $\mathrm{CuCr}50$. Для каждого амплитудного значения тока в зависимости от величины магнитного поля определены времена и токи, при которых образуется анодное пятно. Для каждого тока определено минимальное значение магнитного поля, препятствующего образованию анодного пятна. С использованием измеренных значений диаметров токового канала выполнен расчет температуры анода. Показано, что в условиях эксперимента нагрев анода недостаточен для заметного испарения, а образование анодного пятна связано с кризисом течения потока быстрых катодных ионов.

УДК: 537.52

PACS: 52.80.Mg

Поступила в редакцию: 29.12.2005


 Англоязычная версия: High Temperature, 2007, 45:1, 7–12

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024