RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Успехи физических наук // Архив
УФН, 2019, том 189, номер 3, страницы 323–334 (Mi ufn6375)
Эта публикация цитируется в 18 статьях

КОНФЕРЕНЦИИ И СИМПОЗИУМЫ

Плазменные источники экстремального ультрафиолетового излучения для литографии и сопутствующих технологических процессов (к 50-летию Института спектроскопии РАН)

Д. Б. Абраменкоab, П. С. Анциферовa, Д. И. Астаховac, А. Ю. Виноходовb, И. Ю. Вичевd, Р. Р. Гаязовa, А. С. Грушинd, Л. А. Дорохинa, В. В. Ивановab, Д. А. Кимd, К. Н. Кошелевab, П. В. Крайновe, М. С. Кривокорытовabe, В. М. Кривцунabe, Б. В. Лакатошe, А. А. Лашb, В. В. Медведевace, А. Н. Рябцевa, Ю. В. Сидельниковa, Е. П. Снегирёвa, А. Д. Соломяннаяd, М. В. Спиридоновfb, И. П. Цыгвинцевd, О. Ф. Якушевg, А. А. Якушкинb

a Институт спектроскопии РАН, Москва, г. Троицк
b ООО "ЭУФ Лабс", г. Троицк, г. Москва
c ISTEQ B.V., Eindhoven, Netherlands
d Институт прикладной математики им. М.В. Келдыша РАН, г. Москва
e Московский физико-технический институт (государственный университет), г. Долгопрудный, Московская обл.
f Институт общей физики им. А.М. Прохорова РАН, г. Москва
g Физический институт им. П. Н. Лебедева РАН, г. Москва

Аннотация: Описаны результаты исследований, посвящённых разработке плазменных источников экстремального ультрафиолетового излучения для литографии нового поколения и разработке методов спектральной диагностики таких источников.

PACS: 42.82.Cr, 52.25.Os, 52.59.-f, 52.70.-m, 52.77.-j

Поступила: 28 августа 2018 г.
Одобрена в печать: 20 июня 2018 г.

DOI: 10.3367/UFNr.2018.06.038447


 Англоязычная версия: Physics–Uspekhi, 2019, 62:3, 304–314

Реферативные базы данных:

© МИАН, 2024