Аннотация:
Рассмотрены история и современное состояние исследований электрофизических параметров SiC. Представлены основные методы выращивания объёмных кристаллов SiC и эпитаксиальных SiC-плёнок. Дан краткий обзор используемых для послеростовой обработки эпитаксиальных SiC-структур. Показан современный уровень, достигнутый при разработке приборов на основе SiC. Проанализированы основные проблемы, существующие при разработке SiC-приборов, и перспективы создания и развития таких приборов.
PACS:
81.05.ue, 81.10.-h, 85.30.-z
Поступила:4 сентября 2018 г. Доработана: 1 октября 2018 г. Одобрена в печать: 4 октября 2018 г.