RUS
ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ
// Вычислительные методы и программирование
// Архив
Выч. мет. программирование,
2010
, том 11,
выпуск 3,
страницы
210–214
(Mi vmp312)
Вычислительные методы и приложения
Особый режим легирования наноколонн подложки кремния
Г. А. Тарнавский
Институт вычислительной математики и математической геофизики СО РАН
Аннотация:
Проводится компьютерное моделирование ионной имплантации примесей в наноколонны поверхности кремниевой пластины при направлении потока ионов, параллельном основанию пластины.
Ключевые слова:
математическое моделирование; легирование кремния; имплантация; донорные и акцепторные примеси.
УДК:
519.2:541.1
Полный текст:
PDF файл (537 kB)
©
МИАН
, 2025