Г. А. Тарнавский, “Особый режим легирования наноколонн подложки кремния”, Выч. мет. программирование, 2010, том 11, выпуск 3,страницы 210

Вычислительные методы и приложения

Особый режим легирования наноколонн подложки кремния

Г. А. Тарнавский

Институт вычислительной математики и математической геофизики СО РАН

Аннотация: Проводится компьютерное моделирование ионной имплантации примесей в наноколонны поверхности кремниевой пластины при направлении потока ионов, параллельном основанию пластины.

Ключевые слова: математическое моделирование; легирование кремния; имплантация; донорные и акцепторные примеси.

УДК: 519.2:541.1