Анализ эффекта двойного плазмонного резонанса методом дискретных источников

Метод дискретных источников модифицирован для математического моделирования и исследования рассеивающих свойств несферических частиц, локализованных на поверхности проводящей пленки, расположенной на стеклянной призме. Проведено исследование как дифференциальных, так и интегральных рассеивающих свойств наноразмерных металлических частиц. Показано, что возможно обеспечить рост сечения рассеяния за пленкой в $10^7$ раз за счет деформации и сдвига частиц по отношению к пленке. Установлено, что распределение рассеянной интенсивности в призме имеет вид остронаправленных лучей, причем интенсивность в максимумах превышает амплитуду падающей волны в $15$–$30$ раз. Библ. 13. Фиг. 6.